Leica EM RES102多功能离子减薄仪

适用于TEM，SEM以及LM的样品制备。

的解决方案

Leica EM RES102 是一款的离子束研磨设备，带有两个鞍形场离子源，离子束能量可调，以获得离子研磨结果。这一款独立的桌面型设备集 TEM，SEM和LM样品制备功能于一体，这与市面上其它设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外，徕卡EM RES102还可用于低能量极温和的离子束研磨过程。

TEM 样品

› 单面或双面离子束研磨适用于材料的离子束减薄过程。鞍形场离子源可获得很大的电子束透明薄区。

› 程序化控制的离子入射角度变化，适用于完成特殊的样品制备目的，例如FIB样品清洁，以减少无定形非晶层。

 SEM 或 LM 样品

› 离子束抛光抛光区域可达25mm。

› 离子束清洁适用于对样品表面污染层或机械抛光后表面产生的涂抹层进行清洁。

› 样品表面衬度增强作用，可替代化学刻蚀作用。

› 35°斜坡切割用于制备多层样品的截面。

› 90°斜坡切割用于制备复合结构的半导体样品或组装器件，这种方式所需的机械预加工工作少 。 

离子束研磨

近来，离子束研磨技术已经被发展为适宜无机材料样品分析的一项样品制备技术。离子束研磨技术是利用高能量的离子束轰击方式以去除样品表面物质或对样品表面起到修饰作用。离子枪（在一个高真空环境中）产生离子束，以一个入射角度向样品表面轰击 。

对于TEM样品的离子束减薄，通常离子束以一个较低的入射角度轰击到样品表面，起到样品表面抛光作用，直到将薄片样品被研磨至电子束透明为止。

对于SEM样品的表面修饰作用，可利用较大的入射角度进行离子束研磨来实现，入射角度可达到90°。SEM样品制备包含样品表面离子清洁，离子束抛光和衬度增强。http://www.yetech.hk/

主要特点

› 一台桌面型设备，集TEM，SEM和LM样品制备功能于一体

› 通过局域网实现对离子研磨过程远程遥控

› 离子束抛光区域很大，可达25mm

› 离子研磨过程参数全电脑控制

为了支持多样化的应用需求，Leica EM RES102 可以装配各种样品台以适用于TEM，SEM及LM样品制备。预抽室系统实现样品快速交换，从而可有效提高样品交换效率。

SEM

薄片样品台用于夹持尺寸为5(H)×7(W)×2(D) mm样品。该样品台可以很方便地被直接转移进SEM中，而不需要取出样品。

TEM

TEM样品夹用于单面或双面离子束减薄，减薄角度可低至4°。

    SEM

该样品台适用于SEM和LM样品的离子束清洁，抛光和衬度增强，可在环境温度下或 LN2制冷情况下使用。SEM样品台可以制备尺寸达 25mm 的样品。适配器用于夹持商品化生产的带有3.1mm直径插针的SEM样品座。

TEM

TEM冷冻样品夹具与LN2制冷装置联用，用于制备温度敏感型样品。

    SEM

斜坡切割样品台适用于切割样品获得纵截面(90°)或斜截面(35°)，便于SEM观察样品内部纵向结构，可以在环境温度下或 LN2 制冷情况下使用。http://www.yetech.hk/

FIB

FIB清洁样品台用于清洁FIB样品，减少表面无定形非晶层。
        Leica EM RES102可对样品进行离子束减薄，清洁，截面切割，抛光以及衬度增强，这极大满足了您对应用需求的多样化和便利性。

操作简便

› 19”触摸屏电脑控制单元，监控并记录制样过程

› 内置应用参数库

› 程序化制样参数设定，加速初学者学习曲线

› 帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护

    高效/节约成本

› TEM，SEM和LM应用功能集于一体

› TEM样品制备获得的薄区大，有效提高了TEM样品制备效率

› SEM样品制备可达25mm样品直径

› 预抽室系统帮助快速交换样品，减少等待时间，并保证了样品室的持续高真空

› 局域网功能方便远程操控

› LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨

安全

› 精确的自动终止功能，适用于光学终止或透明样品的法拉第杯终止

› 在制样过程中可以时时存储活图像或视频

› 离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果

与 Leica EM TXP 相兼容

在使用 Leica EM RES102 之前，往往需要对样品进行机械预加工以切割研磨抛光到尽可能接近于目标区域。 Leica EM TXP 是一款的可对目标区域进行精确定位的表面处理设备，可对样品进行切割及抛光等，适合于作为如 Leica EM RES102 等设备的前期制样工具。Leica EM TXP 可对样品进行诸如切割，铣削，研磨及抛光等前处理，尤其适用于需要目标精细定位或需对微小目标进行定点处理的高难度样品。