X荧光分析仪熔样炉(熔样机 熔片机)

 Front系列X荧光分析仪快速全自动熔样炉(熔样机 熔片机)简介

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X荧光光谱仪分析制备样品方法中一个重要的方法就是熔融法，熔融法是把粉碎后的氧化物粉末样品与熔剂按一定的比例混合，在高温下共熔，使样品与熔剂形成均匀的玻璃体。而熔融法重要的设备就是X荧光熔样机，北京卓信博澳仪器有限公司和国家地实验测试中心共同研制开发生产的Front系列X荧光分析仪快速全自动熔样炉(熔样机 熔片机)可以满足用户的要求。

Front系列X荧光分析仪快速全自动熔样炉(熔样机 熔片机)技术参数

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输入电压：AC220V±10％，50/60HZ
额定功率：< 3 kW
升温速率：室温至1050℃/30min
温升：1250℃
推荐常规使用温度：<=1150℃
同时熔样个数：<= 4个
熔样速度：>= 16个样品/小时
仪器表面温升：< 50℃
安装要求：室内使用，室温<= 35℃，湿度 <= 75% RH；必须配备安全地线；无高频干扰；避免振动。
其它：遵从贵金属实验室使用规则。
外形尺寸： 820mm（宽）×750mm（深）×800mm（高）

Front系列X荧光分析仪快速全自动熔样炉(熔样机 熔片机)坩埚的保养

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(1)减少腐蚀
这也是重要的。任何氧化不完全的物质都可能引起对坩埚的腐蚀，比如硫化物、铁合金、Cu2O等，所以不要抱有任何侥幸心理，在熔融前需要对样品有充分的了解。
(2)清洗
坩埚在使用过程中，由于某些特殊样品可能会导致脱模效果不好，坩埚中会黏附玻璃残渣。残渣快速的清洗方法一般用稀酸煮沸，需强调的是必须用单一酸，或硝酸，或盐酸，千万不能用硝酸和盐酸的混酸。另一种方法就是加入熔剂再进行一次熔融，脱模后倾倒出玻璃片即可。
(3)抛光
对于一些轻微的腐蚀，比如坩埚失去光泽时，可以尝试对坩埚进行一次抛光。一般可用绒布或细粒砂纸（比如800目）高速摩擦坩埚，使坩埚恢复光滑。抛光操作一定要小心，切不可用粗砂纸直接摩擦坩埚。如果腐蚀太严重时，对坩埚进行一次重铸。
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